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Katsushi&nbsp;Ikeuchi:微软高级首席研究经理、日本东京大学名誉教授希望两岸同胞和衷共济、同心同行,共创中华民族伟大复兴美好未来。会上,双方回顾了两局今年合作情况,通报了各自知识产权工作最新进展,并就未来双边合作,特别是两局PCT国际检索单位试点项目、人工智能领域合作、五局合作框架下的双边合作,以及其他共同关心的知识产权议题深入交换了意见。2019年底,高价值专利的审查周期已经压缩到了个月,商标注册平均审查周期已经压缩到了个月。

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