万通道3D纳米激光直写光刻机模型。　鲍梦妮 摄

　　据悉，双光子激光直写技术因具备高分辨率、低热效应、无掩模和真三维加工能力，是微纳加工领域的前沿方向，广泛应用于芯片制造、光存储、微流控和精密传感等领域。但传统单通道激光直写在加工速度上存在瓶颈，难以满足高精度、大面积制造的产业化需求。

　　对此，研发团队采用双光子激光直写技术，提出数字微镜协同微透镜阵列的光场调控方案，可在系统中生成1万多个可独立控制的激光焦点。每个焦点能量可实现169阶以上的精细调节，从而实现多通道独立控制。

　　浙江大学极端光学技术与仪器全国重点实验室副主任匡翠方将此突破比喻为“同时用1万支笔写1万个不同的字”。“如何‘写’得精细且均匀是难点所在。”匡翠方介绍，目前该激光直写光刻机实现2.39×10⁸体素/秒的超高打印速率，加工速度和精度均处于国际领先水平。

　　此外，研发团队提出自适应匀化算法、并行条带扫描、并行灰度体曝光等加工策略。基于上述创新，该激光直写光刻机的加工精度可达亚30纳米，加工速率可达42.7平方毫米/分钟，最大刻写尺寸覆盖12英寸硅片，为大面积微纳结构的高通量、高精度制造提供了新途径。(完)

【编辑:田博群】

　　备案申请有下列情形之一的，不予备案，并向当事人发送《专利实施许可合同不予备案通知书》：　　（一）专利权已经终止或者被宣告无效的；　　（二）许可人不是专利登记簿记载的专利权人或者有权授予许可的其他权利人的；　　（三）专利实施许可合同不符合本办法第九条规定的；　　（四）实施许可的期限超过专利权有效期的；　　（五）共有专利权人违反法律规定或者约定订立专利实施许可合同的；　　（六）专利权处于年费缴纳滞纳期的；　　（七）因专利权的归属发生纠纷或者人民法院裁定对专利权采取保全措施，专利权的有关程序被中止的；　　（八）同一专利实施许可合同重复申请备案的；　　（九）专利权被质押的，但经质权人同意的除外；　　（十）与已经备案的专利实施许可合同冲突的；　　（十一）其他不应当予以备案的情形。