中国科研机构发明新型激光直写光刻机 《曼娜回忆禄第七章》硅业分会最新数据显示,今年硅料产能增量约104万吨/年,包括现有在产企业扩产项目约74万吨/年,新进企业新建项目约30万吨/年。《曼娜回忆禄第七章》
以下是我们将在2023年关注的五件事:全球经济增长或放缓随着通货膨胀持续(尽管可能有所缓和),2023年全球经济增长可能放缓。
中新网杭州4月10日电(鲍梦妮)4月10日,浙江大学极端光学技术与仪器全国重点实验室在杭州举行成果发布会,宣布成功研发万通道3D纳米激光直写光刻机,为超分辨光刻、光子芯片制造、高端掩模版加工等领域提供关键技术支撑。
万通道3D纳米激光直写光刻机模型。 鲍梦妮 摄
据悉,双光子激光直写技术因具备高分辨率、低热效应、无掩模和真三维加工能力,是微纳加工领域的前沿方向,广泛应用于芯片制造、光存储、微流控和精密传感等领域。但传统单通道激光直写在加工速度上存在瓶颈,难以满足高精度、大面积制造的产业化需求。
对此,研发团队采用双光子激光直写技术,提出数字微镜协同微透镜阵列的光场调控方案,可在系统中生成1万多个可独立控制的激光焦点。每个焦点能量可实现169阶以上的精细调节,从而实现多通道独立控制。
浙江大学极端光学技术与仪器全国重点实验室副主任匡翠方将此突破比喻为“同时用1万支笔写1万个不同的字”。“如何‘写’得精细且均匀是难点所在。”匡翠方介绍,目前该激光直写光刻机实现2.39×10⁸体素/秒的超高打印速率,加工速度和精度均处于国际领先水平。
此外,研发团队提出自适应匀化算法、并行条带扫描、并行灰度体曝光等加工策略。基于上述创新,该激光直写光刻机的加工精度可达亚30纳米,加工速率可达42.7平方毫米/分钟,最大刻写尺寸覆盖12英寸硅片,为大面积微纳结构的高通量、高精度制造提供了新途径。(完)
【编辑:田博群】 新华社北京2月9日电(记者冯家顺、刘奕湛)记者9日从最高人民检察院获悉,去年全国检察机关起诉涉黑恶犯罪万人,同比下降%。
气温骤降至零下30摄氏度,蓄电池放电效能大幅衰减……日前,第79集团军某旅冒着严寒,将数十台信息化装备拉到野外驻训场,广泛采集严寒条件下的装备性能数据,为探索提升寒区部队装备保障质效提供数据支撑。
西湖和杭州水井的历史渊源无论是生命的存活和繁衍,还是文化的生成和发展,最初都离不开水。。
(责任编辑:麦克鲍力施)
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