李强签署国务院令 公布修订后的《集成电路布图设计保护条例》 《嫩草一二区》对于侵权行为的赔偿数额上限由3倍提升至5倍,从300万元提高至500万元。《嫩草一二区》
所受理的案件与已被作为驰名商标予以保护的案件的保护范围不同,或者对方当事人对该商标驰名有异议,且提供该商标不驰名的证据材料的,应当由商标局或者商标评审委员会对该驰名商标材料重新进行审查并作出认定。
新华社北京8月3日电 国务院总理李强日前签署国务院令,公布修订后的《集成电路布图设计保护条例》(以下简称《条例》),自2026年10月15日起施行。
《条例》旨在保护集成电路布图设计专有权,鼓励集成电路技术创新,促进科学技术发展。《条例》共6章54条,修订的主要内容如下。
一是明确总体要求。规定集成电路布图设计保护工作应当贯彻党和国家知识产权战略部署,扩展保护范围,强调诚实信用。
二是完善申请、审查程序。规制虚假申请,细化材料要求,完善驳回、撤销程序,增加权利恢复程序。
三是加强专有权保护。明确权利范围界定标准,加大侵权赔偿力度。
四是促进布图设计运用。加强公共服务,明确奖酬措施,完善转让、许可、出质要求,规范共有人权利行使。 【编辑:梁异】
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(责任编辑:麦克鲍力施)
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