《内射软件》{新闻网内容}
2019年底，高价值专利的审查周期已经压缩到了个月，商标注册平均审查周期已经压缩到了个月。《内射软件》事实证明，我们的坚持是对的，实现了从0到1的突破，从无到有地发展了整套自主的碳芯片技术，为后续自主可控的碳基集成电路的产业发展打下了良好基础。
相关报道
移动客户端
官方微信
官方微博
